中國グラフェン産業(yè)技術革新戦略連盟が発表した情報によると、2010年のノーベル物理學賞受賞者、英マンチェスター大學のアンドレ?ガイム氏を含む多くの世界的に有名な専門家が、10月28～30日に青島國際會展センターで開かれる2015年中國國際グラフェン革新大會（GRAPCHINA 2015）に出席することになった。科技日報が伝えた。

同大會のテーマは「グラフェンの実用化のソリューションプラン」。講演とサブフォーラムで取り上げられる內容には、生産技術、標準化、新エネルギー、放熱、タッチパネル、伝導性インク、複合材料、機能性塗料など30以上のニッチ分野が含まれ、業(yè)界展示交流、學術資料の展示なども行われる。同大會では4つの基礎応用サブ會場、6つの特色あるフォーラム、7つの二國間協(xié)力フォーラム、22の応用技術サブ會場が設置される。また會期中に、國際革新創(chuàng)業(yè)コンテストが開かれる。（編集YF）

「人民網(wǎng)日本語版」2015年10月14日